公开/公告号CN104091746A
专利类型发明专利
公开/公告日2014-10-08
原文格式PDF
申请/专利权人 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;
申请/专利号CN201410307986.7
申请日2014-06-30
分类号H01J37/317;H01J37/30;
代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司;
代理人申健
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
入库时间 2023-12-17 01:59:14
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-07-14
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01J37/317 申请公布日:20141008 申请日:20140630
发明专利申请公布后的驳回
2014-10-29
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/317 申请日:20140630
实质审查的生效
2014-10-08
公开
公开
机译: 用于离子注入设备的电极和离子注入设备
机译: 离子注入设备将离子注入到对象中-离子源和提取电极的离子聚焦到电子束sepd中。按质量分离器
机译: 防止离子注入设备中的离子束滴落的装置及其方法,通过防止离子注入设备中的离子束滴落现象将离子注入晶片中