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一种离子注入设备用电极和离子注入设备

摘要

本发明的实施例提供一种离子注入设备用电极和离子注入设备,涉及半导体技术领域,可增大电极的开口率,增加离子束的密度,从而提高离子注入的效率。所述离子注入设备用电极包括本体部分和透过部分;所述透过部分包括紧密规则排布的多个透过孔,且所述透过孔的形状包括圆形或者正多边形;其中,所述正多边形的边数至少为四条。用于离子注入设备的制造。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01J37/317 申请公布日:20141008 申请日:20140630

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2014-10-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/317 申请日:20140630

    实质审查的生效

  • 2014-10-08

    公开

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