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Patent Application Titled 'Ion Implant Apparatus and Method of Ion Implantation' Under Review

机译:正在审查标题为“离子注入设备和离子注入方法”的专利申请

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摘要

2013 MAR 27 (VerticalNews) -- By a News Reporter-Staff News Editor at Journal of Engineering -- According to news reporting originating from Washington, D.C., by VerticalNews journalists, a patent application by the inventors Smick, Theodore (Essex, MA); Ryding, Geoffrey (Manchester, MA); Sakase, Takao (Rowley, MA); Park, JR., William (Somerville, MA); Gillespie, Joseph (Boston, MA); Horner, Ronald (Auburndale, MA); Eide, Paul (Stratham, NH), filed on September 7, 2011, was cleared for further review on March 14, 2013.
机译:2013年3月27日(VerticalNews)-由Engineering Journal的新闻记者-Staff新闻编辑-根据VerticalNews记者发自华盛顿特区的新闻报道,发明者Smick,Theodore(马萨诸塞州)的专利申请;杰弗里·雷丁(马萨诸塞州曼彻斯特);高尾坂濑(麻省罗利);威廉·帕克(JR。),威廉(马萨诸塞州萨默维尔); Gillespie,Joseph(马萨诸塞州波士顿);罗纳德·霍纳(马萨诸塞州奥本代尔);于2011年9月7日提交的Eide,Paul(新罕布什尔州斯特拉瑟姆)已于2013年3月14日获准进一步审核。

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