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有序三维纳米结构阵列的卷对卷制造方法及其材料和产品

摘要

本发明公开了预定或有序三维纳米结构阵列的卷对卷制造方法、及其相关材料和制造品。所述方法可以包括:通过在衬底上滚动包括结构的二维阵列的圆筒形图案,来压印衬底以具有二维图案。此外,还提供了通过对工艺参数的控制来控制或确定纳米结构参数。

著录项

  • 公开/公告号CN104078532A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-10-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 香港科技大学;

    申请/专利号CN201410123263.1

  • 发明设计人 范智勇;梁兆丰;

    申请日2014-03-28

  • 分类号H01L31/20;H01L31/0236;H01L31/0352;H01L31/06;B82Y40/00;

  • 代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈源

  • 地址 中国香港九龙清水湾

  • 入库时间 2023-12-17 01:59:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L31/20 申请公布日:20141001 申请日:20140328

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2014-10-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/20 申请日:20140328

    实质审查的生效

  • 2014-10-01

    公开

    公开

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