法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-01-11
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01B13/00 申请公布日:20140326 申请日:20130830
发明专利申请公布后的视为撤回
2014-04-23
实质审查的生效 IPC(主分类):H01B13/00 申请日:20130830
实质审查的生效
2014-03-26
公开
公开
机译: 形成用于氧化物超导体的取向层下层的方法,用于制造具有氧化物超导体的取向层的基板的方法,具有用于氧化物超导体的取向层的基板和用于氧化物超导体的取向层下层的沉积设备
机译: 氧化物超导体的基质的制造方法,氧化物超导体的制造方法以及氧化物超导体的覆盖层形成装置
机译: 氧化物超导体的制造方法,氧化物超导体的原材料和氧化物超导体的原材料的制造方法