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提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法

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摘要

一种提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法，其特征在于在大气压等离子体射流阵列的工作气体纯氦气体中添加氧气，氦气流速为3L/min，氧气流速为0.003～0.007L/min。本发明可使等离子体射流阵列具有最优的空间均匀性。

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-04-19

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H05H1/26 申请公布日:20140820 申请日:20140325

发明专利申请公布后的视为撤回
2014-09-17

实质审查的生效 IPC(主分类):H05H1/26 申请日:20140325

实质审查的生效
2014-08-20

公开

公开

1. 提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法 [P] . 中国专利： CN103997842A . 2014-08-20
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