一种真空灭弧室用CuCr触头材料表面处理方法

摘要

一种真空灭弧室用CuCr触头材料表面处理方法，触头材料进行机加工、清洗、干燥后，采用高能电子束对材料表面进行扫描，获得厚度约100μm的电子束重熔层，且重熔层内Cr颗粒尺寸小于1μm。上述电子束扫描过程在真空环境下进行，真空度＜0.1Pa，电子束扫描频率为350-450HZ，电压55-65KV，电流60-70mA。由于经电子束扫描后，触头材料表面的晶粒明显细化，因此其物理机械性能及电性能均有很大程度改善。