首页> 中国专利> 光扩散性转印材料、光扩散层的形成方法、有机电致发光装置和有机电致发光装置的制造方法

光扩散性转印材料、光扩散层的形成方法、有机电致发光装置和有机电致发光装置的制造方法

摘要

本发明的目的在于提供一种能够形成光扩散层的光扩散性转印材料,该光扩散层具有优异的转印性、并且能够提高有机电致发光装置的光提取效率;本发明提供一种光扩散性转印材料,该光扩散性转印材料在支撑体上具有含有至少一种光扩散颗粒和至少一种高折射率无机填料的有机膜,该有机膜中的上述光扩散颗粒的含有率为25体积%以上50%体积以下。

著录项

  • 公开/公告号CN103959107A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-07-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士胶片株式会社;

    申请/专利号CN201280059224.9

  • 发明设计人 诸桥佳奈;飞世学;

    申请日2012-11-14

  • 分类号G02B5/02(20060101);H01L51/50(20060101);H05B33/02(20060101);H05B33/10(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人丁香兰;庞东成

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 00:50:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-24

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B5/02 申请公布日:20140730 申请日:20121114

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2014-09-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/02 申请日:20121114

    实质审查的生效

  • 2014-07-30

    公开

    公开

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