用于显示器装置中含铜金属层的蚀刻组合物及用其蚀刻金属层的方法

摘要

本发明涉及用于显示器装置中的含铜金属层的蚀刻组合物，该组合物包含至少一种铜离子源、至少一种氟离子源、至少一种无机酸和/或其盐、一种第一含氮有机化合物、一种第二含氮有机化合物、以及至少一种有机酸和/或其盐，该第一含氮有机化合物选自由脂肪胺、芳香胺和其任何组合组成的组，该第二含氮有机化合物选自由含氮杂环、多负载胺化合物（multi-chargeableaminecompounds）和其任何组合组成的组。根据本发明的蚀刻组合物可以提供优异的蚀刻均匀性，而不会对下面的半导体层造成损害。