首页> 中国专利> 具有相位校正副面的多波束抛物环面天线制造方法

具有相位校正副面的多波束抛物环面天线制造方法

摘要

本发明公开了一种具有相位校正副面的多波束抛物环面天线制造方法。它包括:抛物环面天线生成角α的确定,对D/λ>200的抛物环面天线,为克服严重散焦现象,所提出的附加相位校正副面的方法及副面赋形的五个约束条件:等光程、低交叉极化、副面最小尺寸大于5个波长,扩大每个波束对主面的横向复用面积,跟踪时相邻副面不碰撞。本发明方法制造的天线波束多、效率高、旁瓣低、交叉极化低。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-10-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01Q 15/16 授权公告日:20021030 终止日期:20160907 申请日:19990907

    专利权的终止

  • 2002-10-30

    授权

    授权

  • 2002-10-30

    授权

    授权

  • 2000-03-22

    公开

    公开

  • 2000-03-22

    公开

    公开

  • 2000-02-23

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 2000-02-23

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号