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一种测量源物质蒸发部中剩余的源物质的量的方法

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本发明提供一种在将由保存在源物质蒸发部中的源物质蒸发出的源气体提供给蒸镀室执行薄膜蒸镀的化学气相蒸镀工序中，测量源物质蒸发部中剩余的源物质量的方法。本发明的方法的特征在于，包括(a)将源物质蒸发部(110)内的气体压力维持在第1压力的阶段、和(b)往源物质蒸发部(110)中提供测量气体从而将源物质蒸发部(110)内的气体压力维持在第2压力的阶段；根据源物质蒸发部(110)内的气体压力从第1压力到达第2压力时为止的测量气体的供给量或供给时间，测量源物质蒸发部(110)中剩余的源物质(120)的量。

著录项

公开/公告号CN101457352B

专利类型发明专利
公开/公告日2012-10-03

原文格式PDF
申请/专利权人泰拉半导体株式会社;
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申请/专利号CN200810184353.6
发明设计人张泽龙;李炳一;
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申请日2008-12-10
分类号
代理机构北京鸿元知识产权代理有限公司;
代理人陈英俊
地址韩国京畿道
入库时间 2022-08-23 09:11:16

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2015-02-04

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/44 授权公告日:20121003 终止日期:20131210 申请日:20081210

专利权的终止
2012-10-03

授权

授权
2010-12-29

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20081210

实质审查的生效
2009-06-17

公开

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1. 一种测量源物质蒸发部中剩余的源物质的量的方法 [P] . 中国专利： CN101457352B . 2012.10.03
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