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微纳米银、铜或银铜合金薄膜及其制备方法

摘要

本发明提供了一种微纳米银、铜或银铜合金薄膜及其制备方法。该微纳米银、铜或银铜合金薄膜的制备方法采用光化学液相沉积法,将半导体基体浸入硝酸银溶液或/和硝酸铜溶液中,进行紫外光光照,该半导体基体通过吸收光子被激发出电子,使银离子或铜离子还原生成银或铜,沉积在被氢氟酸腐蚀过的半导体基体上,从而实现微纳米颗粒的均匀沉积,得到上述微纳米银、铜或银铜合金薄膜。该方法工艺简单、条件易控、避免了有机溶剂的使用,有效降低了生产成本,并且容易控制金属薄膜的大小、形貌及组分。由该方法制备的微纳米银、铜或银铜合金薄膜具有优良的抗冲击性及抗腐蚀性。

著录项

  • 公开/公告号CN103451632A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-12-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳信息职业技术学院;

    申请/专利号CN201310140628.7

  • 发明设计人 刘白;刘力睿;

    申请日2013-04-22

  • 分类号C23C18/14;

  • 代理机构深圳中一专利商标事务所;

  • 代理人张全文

  • 地址 518172 广东省深圳市龙岗区龙翔大道2188号

  • 入库时间 2024-02-19 21:23:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-03-01

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C18/14 申请公布日:20131218 申请日:20130422

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2014-04-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C18/14 申请日:20130422

    实质审查的生效

  • 2013-12-18

    公开

    公开

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