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使用来自过去和当前历元的测量的位置确定

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摘要

本文所公开的主题内容涉及使用测量缝合的定位系统和位置确定。

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-08-04

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G01S5/02 申请公布日:20130626 申请日:20110602

发明专利申请公布后的驳回
2013-07-24

实质审查的生效 IPC(主分类):G01S5/02 申请日:20110602

实质审查的生效
2013-06-26

公开

公开

1. 使用来自过去和当前历元的测量的位置确定 [P] . 中国专利： CN106707315B . 2020.12.25
2. 使用来自过去和当前历元的测量的位置确定 [P] . 中国专利： CN103180754A . 2013-06-26
3. Positioning using measurements from past and current epochs [P] . 日本专利： JP5680747B2 . 2015-03-04

机译：使用过去和当前时代的测量结果进行定位
4. Positioning using measurements from past and current epochs [P] . 日本专利： JP2013533961A . 2013-08-29

机译：使用过去和当前时代的测量结果进行定位
5. RETICLE WITH OVERLAY MARK CAPABLE OF MEASURING OVERLAY PARAMETERS BETWEEN PAST AND PRESENT PROCESSES BEFORE EXPOSURE PROCESS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND EXPOSURE METHOD USING THE SAME [P] . 韩国专利： KR20050022530A . 2005-03-08

机译：具有用于制造半导体器件的曝光过程之前的，用于测量过去和当前过程之间的重叠参数的带有重叠标记的标线，以及使用该方法的曝光方法