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具有嵌入式纳米级结构的光子器件

摘要

本发明涉及一种制造发光装置的方法。该方法包括在衬底上方形成第一III-V族化合物层。该第一III-V族化合物层具有第一导电类型。在第一III-V族化合物层上方形成多量子阱(MQW)层。然后在该MQW层上方形成第二III-V族化合物层。该第二III-V族化合物层具有与第一导电类型不同的第二导电类型。此后,在第二III-V族化合物层上方形成多个导电元件。然后在第二III-V族化合物层上方以及在导电元件上方形成反光层。导电元件每一个都比反光层具有更好的粘着特性和导电特性。本发明提供了具有嵌入式纳米级结构的光子器件。

著录项

  • 公开/公告号CN103219435A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201310003824.X

  • 发明设计人 李逸骏;朱荣堂;邱清华;黄泓文;

    申请日2013-01-06

  • 分类号H01L33/00;H01L33/38;H01L33/46;

  • 代理机构北京德恒律治知识产权代理有限公司;

  • 代理人章社杲

  • 地址 中国台湾新竹

  • 入库时间 2024-02-19 19:46:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-24

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L33/00 申请公布日:20130724 申请日:20130106

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-03-09

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L33/00 登记生效日:20160216 变更前: 变更后: 申请日:20130106

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-10-28

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L33/00 登记生效日:20150930 变更前: 变更后: 申请日:20130106

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-08-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/00 申请日:20130106

    实质审查的生效

  • 2013-07-24

    公开

    公开

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