首页> 中国专利> 具有多个等离子体室的游离基反应器

具有多个等离子体室的游离基反应器

摘要

在游离基反应器中提供两个或者更多等离子体室以在不同条件下生成气体的游离基用于在原子层沉积(ALD)工艺中使用。游离基反应器具有如下本体,该本体具有多个通道和对应工艺室。每个等离子体室由外电极包围并且具有经过室延伸的内电极。在跨外电极和内电极施加电压而气体存在于等离子体室中时,在等离子体室中生成气体的游离基。然后向混合室中注入在等离子体室中生成的游离基用于与来自另一等离子体室的另一气体的游离基混合、然后向衬底上注入。通过提供两个或者更多等离子体室,可以在相同游离基反应器内生成气体的不同游离基,这可以避免需要分离的游离基反应器。

著录项

  • 公开/公告号CN103201408A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 思诺斯技术公司;

    申请/专利号CN201180053345.8

  • 发明设计人 李相忍;

    申请日2011-10-31

  • 分类号C23C16/00;

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2024-02-19 19:46:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-03

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C16/00 申请公布日:20130710 申请日:20111031

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2013-12-18

    著录事项变更 IPC(主分类):C23C16/00 变更前: 变更后: 申请日:20111031

    著录事项变更

  • 2013-08-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/00 申请日:20111031

    实质审查的生效

  • 2013-07-10

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号