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大尺寸板状蓝宝石单晶体的水平定向区熔结晶制备方法

摘要

本文发明涉及大尺寸板状蓝宝石单晶生长方法,具体为一种大尺寸板状蓝宝石单晶体的水平定向区熔结晶制备方法。其工艺特点是:采用舟形钼坩埚,真空条件下水平区熔结晶生长;熔体自由表面百分比大,原料与坩埚体同时运动,无强制对流。其生长过程包括化料、引晶、放肩、等宽生长、冷却及其退火六大过程。本发明结合定向结晶法和垂直区熔法的优点,使得制备的蓝宝石晶体具有质量更高,材料利用率更高,缺陷密度低,光学性能好等优点,且根据坩埚的形状更合适异形蓝宝石单晶体的生长。

著录项

  • 公开/公告号CN103194791A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN201310143495.9

  • 申请日2013-04-24

  • 分类号C30B13/00;C30B29/20;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区一匡街2号哈工大科学园A栋201室

  • 入库时间 2024-02-19 18:43:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-12

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C30B13/00 授权公告日:20160504 终止日期:20180424 申请日:20130424

    专利权的终止

  • 2016-05-04

    授权

    授权

  • 2013-08-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B13/00 申请日:20130424

    实质审查的生效

  • 2013-07-10

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及单晶制备的生长方法,具体涉及一种大尺寸板状蓝宝石单晶体的水平定向 区熔结晶制备方法。

背景技术

蓝宝石单晶体(α-Al2O3)是一种机械性能稳定,物理性能优良,在紫外、可见和红 外波段有宽的透射带及高的透射率的光学材料,与众多其它光学窗口材料相比,有更稳 定的化学性能和热力学性能,如抗酸碱腐蚀、高硬度、高拉伸强度、高导热率、和显著 的抗热冲击品质因子等。这些光学与机械性质的组合使蓝宝石材料被广泛应用于波导激 光器腔体、超声波传导元件、微波电极管介质、红外军事装置、空间飞行器的红外窗口 材料等方面,涉及到科学技术、国防与民用工业的诸多光电领域。大尺寸蓝宝石单晶的 生长一直是蓝宝石生长和应用的技术瓶颈,尺寸大于250×300mm的各向异性蓝宝石可 用作10′以上LED衬底、大尺寸透镜及大尺寸的特殊光学窗口。

目前,生长大尺寸蓝宝石单晶体的传统方法包括提拉法、区熔法、火焰法、倒模法导 向温梯法及热交换法等。但由于蓝宝石自身的内禀性,每种生长方法均有其优缺点,难 以完美,例如上述生长方法中,提拉法可以生长高质量的单晶体,但在生长过程中籽晶 需要一定速度的旋转,且单晶使用的结晶学方向与单晶提拉方向有一定的夹角,因而导 致晶体的生长直径较小,同时晶体的利用率也很低;火焰法的生长温度梯度较大,因而 导致生长出晶体的应力和缺陷很高;倒模法仅在生长小构件的蓝宝石单晶体方面有独特 的优势,但其生长的缺陷密度较高,难以被微电子用衬底基片领域采纳;热交换法及其 导向温梯法由于坩埚的利用率较低,成本居高不下,难以市场化。因而当今蓝宝石晶体 的生长研究重点依然是改进现有的晶体生长方法,通过工艺控制和优化,减少其生长缺 陷,提高其晶体质量。

发明内容

基于以上不足之处,本发明的目的在于提供一种大尺寸蓝宝石单晶体的水平定向区 熔结晶制备方法,本方法制得的大尺寸蓝宝石单晶体缺陷密度低,物理性能高、质量优 异。

本发明的目的是这样实现的,方法如下:

(1)真空氛围下化料:将5Kg-16Kg的Al2O3预结晶料装入钼制坩埚内,同时将籽晶固 定于籽晶槽内,保证籽晶的位置位于坩埚的几何中心处,偏差不大于10.0mm,装入生长 炉,打开冷循环和真空系统,冷循环系统的出水口温度稳定在28±8℃范围内,真空达到 1.0×10-4Pa-2.0×10-4时,进行加热,在加热的过程中,真空度应维持在1.0×10-3Pa-5.0×10-3Pa,加热至原料的熔化后,观察液面表面形态和液流线,调节功率,使熔体对流形态稳 定,进行充分化料4-4.5小时,化料时的真空度应维持在1.0×10-4Pa-2.0×10-4Pa;

(2)引晶:当预结晶料充分熔化后观察液流,缓慢调节功率至高温区内,确定合适的引 晶温度;当熔体遇到籽晶时,籽晶既不生长也不熔化时,温度为合适引晶;将籽晶缓慢 移入高温区内,使熔体接触籽晶3-5mm,保持熔晶5-10min,引晶速率为2mm/h-3mm/h; 下调加热功率为4-5W/h;

(3)放肩阶段:引晶6-7小时后进入放肩生长过程,放肩速率为3-4mm/h,下调加热功 率为2-5W/h,其放肩角度为40°-150°;

(4)等宽生长阶段:直至坩埚的前端放肩部分移动至高温区边缘,进入等宽生长阶段; 生长速率为4mm/h-6mm/h,下调加热功率为1-2W/h,直至结晶过程结束;

(5)冷却及退火过程:在冷却过程中,初始降温速率为10-30℃/h,降至原位退火温度 处;原位退火温度1650-1750℃,退火时间10-15h;再次降温至800℃,降温速率为 20-50℃/h;随后再次逐步降温至室温,降温速率为30-50℃/h;冷却至室温后,再次保持 24小时循环冷却和继续抽真空。

本发明还具有如下特征:

1、如上所述的钼制坩埚为舟形钼坩埚。

2、如上所述的籽晶,晶向为A向、M向、C向或R向;籽晶的位置位于坩埚的几何中 心处,偏差不大于10.0mm。

3、如上所述的钼制坩埚尺寸为220mm×450mm×50mm。

4、一种按如上所述的方法制得的大尺寸板状蓝宝石单晶体。

本发明结合定向结晶法和垂直区熔法的优点,针对能生长尺寸更大,适合异形构件, 品质更高,利用率更高,缺陷密度低,光学性能好的蓝宝石单晶材料。用水平定向结晶 法生长高质量的晶体的主要要求是:制备符合生长晶体的料舟,控制坩埚的移动速率和 精确调节温场的温度梯度。晶体的尺寸依赖于料舟的大小,晶体生长界面的稳定性则取 决于坩埚的移动速率和温场的温度梯度。单晶生长的驱动力是在固液界面处维持一定的 过冷度,对不同的晶体材料,其结晶的驱动力不同。在水平定向结晶法中,这种驱动力 主要依靠调节发热体、保温装置以及循环水冷却系统等使在固液界面处形成一定的温度 梯度。同时,为了获得高质量的单晶,在炉膛内形成合适的温场显得十分重要。在水平 定向结晶法中,通过设计发热体的形状和改变保温装置的尺寸等方式,形成适合不同晶 体生长的温场及热量传递途径。

本发明的积极效果:

1.生长出尺寸大于220mm×400mm×40mm的缺陷密度低、晶体物理性能高、质量优异的 板状蓝宝石单晶体。

2.采用区熔方式生长,使工艺成本降低。

3.采用舟型坩埚,自由的上表面占总接触表面的35%-40%,因此生长出的位错密度相对 较小。

4.晶体的形状可以随坩埚的形状而定,不仅适合生长大尺寸的平板状晶体,也适合异形晶 体的生长。并且生成的单晶加工余量也是最小。

5.可以使用定向籽晶,选择不同取向的籽晶可以得到不同取向的单晶。

6.原料与坩埚体的同时运动,避免了因坩埚壁对晶体和熔体的热辐射作用,使晶体质量更 好;同时也降低了熔体、晶体、坩埚之间横向向和径向上的温度梯度,减少了晶体的宏 观缺陷。

7.整个生长过程在炉膛内,不直接暴露于空气对流的环境中,且无旋转,可以消除旋转条 纹。多组电阻线圈加热及多层钼板板的防热屏,有利于温场的稳定。

8.单晶在降温过程中,可以实现原位退火,降低晶体内生长过程中的内应力及其氧缺陷, 节省成本,简化了工艺。

综上所述,采用水平定向区熔结晶法制备的蓝宝石单晶体,具有尺寸大、缺陷低、 品质高、利用率高、成本低及耗能少等突出优点,因此该技术应用前景广阔,该技术的 推广和应用具有明显的经济效益和社会效益。

具体实施方式

下面举例进一步阐述本发明技术方案。

实施例1:

将预结晶料三氧化二铝15.5Kg装入处理好的钼制坩埚内,钼制坩埚尺寸为 220mm×450mm×50mm,装入生长炉,并开通冷却循环系统和抽真空,当真空度达到 1.0×10-4Pa时,进行电阻加热升温。随着温度的升高,真空度有所下降,但在升温过程中 始终控制真空度在5.0×10-3Pa。升温至观察到熔体液流线时,功率升至为33kW时,观察 熔体液流,适当微调功率变化(250W/h),使液面上刚好出现有序对流的固液转化现象。 在此条件下稳定4.5小时,进行充分化料。所述的籽晶,晶向为A向。将籽晶缓慢移入 高温区内,使熔体接触籽晶5mm,保持熔晶10min,开始引晶,引晶速率控制为2mm/h, 并以4W/h的速度调节功率下降,引晶6小时后进入放肩生长过程,坩埚的移动速率变为 3mm/h,功率下降速率调节3.0W/h,其放肩角度为40°-150°。当舟型坩埚的前端放肩部 分移动至高温区边缘时进入等宽生长阶段,这时坩埚的移动速率增大至4mm/h,而功率 下降速率调节1.5W/h直至结晶过程结束。在冷却阶段,以降温温度为10℃/h,降至原位 退火温度1650℃,退火时间15h;再次降温至800℃,降温速率为20℃/h。随后降温至室 温,降温速率为50℃/h。在整个蓝宝石晶体生长过程中采取功率控制,温度调节控制为 辅,且循环冷却系统的出水温度控制在28±8℃范围内;冷却至室温后,停止功率,保持 24小时循环冷却系统和真空度。最后开炉,取出晶体,经检测本工艺生长的蓝宝石晶体 质量良好,无肉眼可见气泡或裂纹,尺寸为220mm×440mm×41mm。

实施例2:将预结晶料三氧化二铝14.5Kg装入处理好的钼制坩埚内,钼制坩埚尺寸 为220mm×450mm×50mm,装炉,开通冷却循环系统和抽真空,当真空度达到2.0×10-4Pa 时,进行电阻加热升温。在升温过程中始终控制真空度在1.0×10-3Pa。功率升至33.5kW, 观察熔体液流,发现液面有大量气泡溢出,判断坩埚内温度过高,因此以500W/h微调功 率变化,使液面上刚好出现有序对流的固液转化现象。在此条件下稳定4小时,进行充 分化料。所述的籽晶,晶向为M向。将籽晶缓慢移入高温区内,使熔体接触籽晶3mm, 保持熔晶5min,开始引晶,引晶速率2mm/h,并以5W/h的速度调节功率下降,引晶7 小时后进入放肩生长过程,坩埚的移动速率变为3mm/h,功率下降速率调节3.5W/h,直 至舟型坩埚的前端放肩部分移动至高温区边缘,进入等宽生长阶段。等宽生长坩埚的移 动速率增大至4mm/h,而功率下降速率调节1.5W/h直至结晶过程结束。进入冷却退火阶 段,先以降温温度为25℃/h,降至原位退火温度1700℃,退火时间10h;再次逐步降温 至800℃,降温速率为40℃/h,随后降温至室温,降温速率为50℃/h。冷却至室温后,停 止功率后,再次保持24小时循环冷却和继续抽真空度。最后开炉,取出晶体,经检测本 工艺生长的蓝宝石晶体质量良好,尺寸为220mm×440mm×40mm。在整个蓝宝石晶体生 长过程中采取功率控制,温度调节控制为辅。

实施例3:

一种大尺寸板状蓝宝石单晶体的水平定向区熔结晶制备方法,如下:

(1)真空氛围下化料:将5Kg的Al2O3预结晶料装入钼制坩埚内,同时将籽晶固定于籽 晶槽内,保证籽晶的位置位于坩埚的几何中心处,偏差不大于10.0mm,装入生长炉,打 开冷循环和真空系统,冷循环系统的出水口温度稳定在28±8℃范围内,真空达到 1.0×10-4Pa-2.0×10-4,进行加热,在加热的过程中,真空度应维持在1.0×10-3Pa-5.0×10-3Pa, 加热至原料的熔化后,观察液面表面形态和液流线,调节功率,使熔体对流形态稳定, 进行充分化料4小时,化料时的真空度应维持在1.0×10-4Pa-2.0×10-4Pa;

(2)引晶:当预结晶料充分熔化后观察液流,缓慢调节功率至高温区内,确定合适的引 晶温度;籽晶为C向;当熔体遇到籽晶时,籽晶既不生长也不熔化时,温度为合适引晶; 将籽晶缓慢移入高温区内,使熔体接触籽晶3mm,保持熔晶10min,坩埚移动速率为 2mm/h;加热功率下降速率为5W/h;

(3)放肩阶段:引晶7小时后进入放肩生长过程,坩埚的移动速率变为3mm/h,加热功 率下降速率为5W/h,其放肩角度为40°;

(4)等宽生长阶段:直至坩埚的前端放肩部分移动至高温区边缘,进入等宽生长阶段; 坩埚的移动速率增大为4mm/h,加热功率下降速率为2W/h,直至结晶过程结束;

(5)冷却及退火过程:在冷却过程中,初始降温速率为10℃/h,降至原位退火温度处; 原位退火温度1650℃,退火时间15h;再次降温至800℃,降温速率为20℃/h;随后再次 逐步降温至室温,降温速率为20℃/h;冷却至室温后,停止功率后,再次保持24小时循 环冷却和继续抽真空度。所述的钼制坩埚为舟形钼坩埚,钨杆编织矩形加热体,内钨外 钼编织隔热屏。所述的钼制坩埚尺寸为220mm×450mm×50mm。

实施例4:

一种大尺寸板状蓝宝石单晶体的水平定向区熔结晶制备方法,如下:

(1)真空氛围下化料:将16Kg的Al2O3预结晶料装入钼制坩埚内,同时将籽晶固定于 籽晶槽内,保证籽晶的位置位于坩埚的几何中心处,偏差不大于10.0mm,装入生长炉, 真空达到1.0×10-4Pa-2.0×10-4Pa,进行加热,在加热的过程中,真空度应维持在 1.0×10-3Pa-5.0×10-3Pa,加热至原料的熔化后,观察液面表面形态和液流线,调节功率, 使熔体对流形态稳定,进行充分化料4小时,化料时的真空度应维持在 1.0×10-4Pa-2.0×10-4Pa;

(2)引晶:当预结晶料充分熔化后观察液流,缓慢调节功率至高温区内,确定合适的引 晶温度;籽晶,晶向为R向;当熔体遇到籽晶时,籽晶既不生长也不熔化时,温度为合 适引晶;将籽晶缓慢移入高温区内,使熔体接触籽晶5mm,保持熔晶5min,坩埚移动 速率为3mm/h;下调加热功率为4W/h;

(3)放肩阶段:引晶6小时后进入放肩生长过程,坩埚的移动速率变为4mm/h,下调加 热功率为2W/h,其放肩角度为150°;

(4)等宽生长阶段:直至坩埚的前端放肩部分移动至高温区边缘,进入等宽生长阶段; 坩埚的移动速率增大为6mm/h,功率控制,其调节范围为1W/h,直至结晶过程结束;

(5)冷却及退火过程:在冷却过程中,初始降温速率为10℃/h,降至原位退火温度处; 原位退火温度1750℃,退火时间10h;再次降温至800℃,降温速率为50℃/h;随后再次 逐步降温至室温,降温速率为50℃/h;冷却至室温后,停止功率后,再次保持24小时循 环冷却和继续抽真空度。所述的钼制坩埚为舟形钼坩埚,钨杆编织矩形加热体,内钨外 钼编织隔热屏。所述的钼制坩埚尺寸为220mm×450mm×50mm。

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