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一种制作高填充系数的方形孔径平面微透镜阵列的方法

摘要

一种制作高填充系数的方形孔径平面微透镜阵列的方法,所述方法包括下列步骤:选用Na+含量较高的光学玻璃作为基片,进行基片表面清洗,然后在玻璃基片上溅射钛膜层;在钛膜层上均匀涂光刻胶;使用紫外线进行曝光,进行显影;去除钛膜层和光刻胶;进行离子交换,其特征在于:在所述进行曝光时采用了具有方孔的方形掩模板,其中方孔的四边与相邻四孔中心连线所构成的正方形四边相平行或垂直;这种方形孔径平面微透镜阵比先前研制的圆孔扩散的阵列填充因子更高,因此能适用于在光信息的会聚、整形、耦合、互连、成像以及要求光信息尽可能无损地全部利用比提高传输图像像质更重要的情况中。因此,本发明具有非常重要的理论意义和实用意义。

著录项

  • 公开/公告号CN103033860A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-04-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西南大学;

    申请/专利号CN201210591962.X

  • 发明设计人 周素梅;蒋小平;

    申请日2012-12-29

  • 分类号G02B3/00(20060101);

  • 代理机构50209 重庆弘旭专利代理有限责任公司;

  • 代理人周韶红

  • 地址 400716 重庆市北碚区天生路2号

  • 入库时间 2024-02-19 17:47:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-10-28

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G02B3/00 申请公布日:20130410 申请日:20121229

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2013-05-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B3/00 申请日:20121229

    实质审查的生效

  • 2013-04-10

    公开

    公开

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