法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-06-24
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):A61B19/00 申请公布日:20130515 申请日:20111112
发明专利申请公布后的视为撤回
2013-05-15
公开
公开
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机译: 用于X =射线二次辐射后向散射薄膜厚度测量的定位系统-使用带有相对于测量单元的X射线束引导的光的光系统进行定位,用于根据后向散射原理测量薄层的厚度
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