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基于倒置工艺的二维材料纳米器件及其形成方法

摘要

本发明公开了一种基于倒置工艺的二维材料纳米器件及其形成方法,其中形成方法包括:提供衬底;在衬底之上形成过渡层;在过渡层之上形成金属走线层,并在金属走线层中填充层间介质以形成层间介质层;在层间介质层之上形成连接线,其中,连接线的至少一部分与金属走线层相连;在层间介质层之上形成金属接触层,金属接触层与连接线相连;刻蚀金属接触层以分别形成源极、漏极和栅极,其中,源极和漏极分别通过金属接触层与连接线相连;在栅极之上形成栅极介质层;以及在源极、漏极、和栅极的栅极介质层之上形成石墨烯薄膜作为沟道层。本发明的方法采用倒置工艺,易于实现、稳定可靠;本发明的器件具有倒置结构,源漏接触小、栅控能力强。

著录项

  • 公开/公告号CN102867754A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-01-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN201210331608.3

  • 申请日2012-09-07

  • 分类号

  • 代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张大威

  • 地址 100084 北京市海淀区100084-82信箱

  • 入库时间 2024-02-19 16:44:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-02-08

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/336 申请公布日:20130109 申请日:20120907

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2013-02-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/336 申请日:20120907

    实质审查的生效

  • 2013-01-09

    公开

    公开

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