基于光学散射测量的工艺稳健叠加计量

摘要

本发明描述用于基于训练测量模型的稳固叠加误差测量的方法及系统。从由基于散射测量的叠加计量系统从实验设计DOE晶片收集的原始散射测量数据训练所述测量模型。每一测量位点包含以编程叠加变化及已知工艺变化制造的一或多个计量目标。以已知计量系统变化测量每一测量位点。以此方式，所述测量模型经训练以使实际叠加与影响叠加测量的工艺变化及计量系统变化分离。因此，由所述训练测量模型估计实际叠加对工艺变化及计量系统变化具稳固性。基于从用于执行测量的相同计量系统收集的散射测量数据来训练所述测量模型。因此，所述测量模型对系统误差、不对称性等等不敏感。