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对象探测设备和用于在对象侵入方面监测光投影面的方法

摘要

本发明涉及一种用于光投影面(18)的对象探测设备,所述对象探测设备具有:至少一个光源(10),所述至少一个光源分别构造用于如此发射光束(12),使得由多个光源(10)所发射的光束(12)构成的射束图案或由所述至少一个光源(10)所发射的至少一个光束(12)的部分射束(16)构成的射束图案能够射出到所述光投影面(18)的一部分上和/或能够射出到所述光投影面(18)的至少一个部分环境中;探测装置,所述探测装置设计用于根据所射出的射束图案的反射来确定对象到所射出的射束图案中的可能的侵入并且在必要时输出对象警告信号。本发明同样具有一种用于在对象侵入方面监测光投影面(18)的方法,所述方法包括:将射束图案射出到光投影面(18)的至少一部分上和/或射出到所述光投影面(18)的至少一个部分环境中,以及根据所射出的射束图案的反射来求取对象是否已经侵入到所射出的射束图案中。

著录项

  • 公开/公告号CN110476079A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 罗伯特·博世有限公司;

    申请/专利号CN201880019722.8

  • 发明设计人 F·菲舍尔;G·皮拉德;

    申请日2018-01-23

  • 分类号

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人郭毅

  • 地址 德国斯图加特

  • 入库时间 2024-02-19 16:11:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01S17/02 申请日:20180123

    实质审查的生效

  • 2019-11-19

    公开

    公开

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