公开/公告号CN110612482A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-12-24
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201880030698.8
申请日2018-04-17
分类号
代理机构北京市金杜律师事务所;
代理人董莘
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2024-02-19 16:06:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-19
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20180417
实质审查的生效
2019-12-24
公开
公开
机译: 极紫外激光产生等离子体源的激光束聚焦控制系统和方法
机译: 高亮度激光产生的等离子体源以及产生辐射和减少碎片的方法
机译: 高亮度激光产生的等离子体源以及产生辐射和减轻碎片的方法