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印刷和制造系统中的精确位置对准、校准和测量

摘要

本公开提供一种用于快速、精确地确定沉积源相对于沉积目标基材的高度的高精度测量系统。在一个实施方式中,工业印刷机的两个传送路径中的每一个均安装摄像机和高精度传感器。使用这些摄像机来实现分离传送轴之间的记录,以及依据xy位置分别精确地确定高精度传感器的位置。使用高精度传感器中的之一来测量沉积源的高度,而另一个传感器测量目标基材的高度。识别这些传感器之间的相对z轴位置,以便提供两种源和目标基材的精确z坐标标识。所公开的实施方式能够实现动态、实时且高精度的高度测量,达到微米或亚微米的精确度。

著录项

  • 公开/公告号CN110505926A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 卡帝瓦公司;

    申请/专利号CN201880012062.0

  • 申请日2018-02-05

  • 分类号B05D1/40(20060101);B05D1/42(20060101);B05B13/04(20060101);B05C5/02(20060101);H01L21/67(20060101);H05K3/28(20060101);

  • 代理机构11652 北京坦路来专利代理有限公司;

  • 代理人索翌

  • 地址 美国加利福尼亚州纽瓦克

  • 入库时间 2024-02-19 16:02:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):B05D1/40 申请日:20180205

    实质审查的生效

  • 2019-11-26

    公开

    公开

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