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具有局限单元的自对准3D存储器和制造集成电路的方法

摘要

在交叉点阵列中的多个存储单元,在交叉点阵列中交叉点中的存储单元叠层包括串联的一开关元件、一导电势垒层、及一存储单元,及具有在对应交叉点的交叉点面积中对准的多个侧边。叠层中的存储单元包括多个局限间隔物,位于交叉点面积中。这些局限间隔物包括多个外侧表面,位在叠层的一对相反侧边上。再者,可编程电阻存储材料的一主体局限于这些间隔物的多个内侧表面之间。

著录项

  • 公开/公告号CN110610958A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 旺宏电子股份有限公司;

    申请/专利号CN201811079948.5

  • 发明设计人 赖二琨;龙翔澜;

    申请日2018-09-17

  • 分类号H01L27/24(20060101);H01L45/00(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人张宇园

  • 地址 中国台湾新竹科学工业园区力行路16号

  • 入库时间 2024-02-19 15:53:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/24 申请日:20180917

    实质审查的生效

  • 2019-12-24

    公开

    公开

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