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微电子器件及微电子器件制作方法

摘要

本申请实施例提供一种微电子器件及微电子器件制作方法,该微电子器件包括基于衬底制作形成的至少两个相互间隔的、与衬底掺杂类型相反的掺杂阱,及基于衬底一侧制作形成的与各掺杂阱接触的外延结构。所述外延结构远离衬底一侧设置有相互级联的至少两个功率器件,其中每个功率器件与一个掺杂阱对应设置,且各功率器件的低电位端与其对应的掺杂阱连接。如此,通过在衬底中形成相互间隔的掺杂阱,且将各个功率器件的低电位端连接至对应的掺杂阱,使得衬底电压和各个功率器件的低电位端为相同电位,抑制因电子注入到外延结构中而造成功率器件性能的偏移或退化。

著录项

  • 公开/公告号CN110379807A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门市三安集成电路有限公司;

    申请/专利号CN201910702386.3

  • 申请日2019-07-31

  • 分类号H01L27/02(20060101);H01L27/08(20060101);H01L27/088(20060101);H01L29/06(20060101);H01L21/8252(20060101);

  • 代理机构11646 北京超成律师事务所;

  • 代理人刘静

  • 地址 361100 福建省厦门市同安区洪塘镇民安大道753-799号

  • 入库时间 2024-02-19 15:16:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/02 申请日:20190731

    实质审查的生效

  • 2019-10-25

    公开

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