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公开/公告号CN110379713A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-10-25
原文格式PDF
申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;
申请/专利号CN201811623153.6
发明设计人 陈昱璇;苏庆煌;洪正隆;蔡承晏;李达元;李欣怡;张文;李威缙;
申请日2018-12-28
分类号
代理机构北京德恒律治知识产权代理有限公司;
代理人章社杲
地址 中国台湾新竹
入库时间 2024-02-19 15:12:07
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-11-19
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/336 申请日:20181228
实质审查的生效
2019-10-25
公开
机译: 阈值电压调整方法及由此形成的结构
机译: 阈值电压调整的方法及其形成的结构
机译: 由此形成的阈值电压调谐和结构的方法
机译:用于垂直或横向选通的透明InZnO薄膜晶体管的相同批次启用阈值电压调整
机译:阈值电压调整适用于10nm及以上的CMOS集成
机译:地表水中无害农药浓度:一种模拟施用阈值和由此产生的农场收入影响的综合方法
机译:背偏置发生器,用于22nm FD-SOI工艺中的制造后阈值电压调整应用
机译:用于超导电子的hall钡钙铜氧化物薄膜:前体性能,沉积机理,相形成和通过金属有机化学气相沉积形成的三层结构。
机译:纳米结构MOS传感器用于检测牛奶样品中空肠弯曲杆菌的形成检测和随访以及阈值
机译:用于阈值电压调整和改善性能的新型双栅InGaAs垂直纳米线晶体管器件的分析建模和数值模拟
机译:用于形成空心平面外微针的方法和由此形成的装置。