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一种选择性发射极的n型晶体硅太阳电池及其制备方法

摘要

本发明公开了一种选择性发射极的n型晶体硅太阳电池及其制备方法,方法包括:在硅片的特定图形区域沉积一层富含硼的掺杂源;将沉积硼源后的硅片进行高温推进及扩散;单面去除硅片背面的硼硅玻璃层,同时保留正面的硼硅玻璃层;将硅片背面及边缘的硼发射极去除,并重新制绒;硅片背面磷扩散,并形成选择性背场;清洗去掉正面硼硅玻璃层及背面磷硅玻璃层,正面沉积氧化铝氮化硅减反钝化膜,背面沉积氮化硅钝化膜;丝网印刷正面电极及背面电极。本发明可以在无需另通硼源的基础上,一步扩散实现选择性硼发射极,大幅降低金属接触区域的复合,提升太阳电池的开路电压,改善电池的短波响应,提升短路电流,从而有效的提升太阳电池的光电转换效率。

著录项

  • 公开/公告号CN110265497A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天合光能股份有限公司;

    申请/专利号CN201910578323.1

  • 申请日2019-06-28

  • 分类号H01L31/0224(20060101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构33233 浙江永鼎律师事务所;

  • 代理人郭小丽

  • 地址 213022 江苏省常州市新北区天合光伏产业园天合路2号

  • 入库时间 2024-02-19 14:44:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0224 申请日:20190628

    实质审查的生效

  • 2019-09-20

    公开

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