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用于由入射电磁波在近区形成至少一个倾斜聚焦束的设备

摘要

一种用于由入射在设备上的电磁波在近场区中形成至少一个聚焦束的设备,其特征在于它包括:至少部分地包括至少一个腔的至少一个介电材料层,该至少一个腔填充有折射指数小于介电材料的折射指数的介质。该至少一个腔的目标为圆柱形或锥形,并且包括相对于电磁波的到达方向限定的至少一个底表面和至少一个侧表面。该至少一个底表面由具有新月形状的底边缘线描绘,该底边缘线包括凹底边缘线段和凸底边缘线段,该底边缘线形状和/或取向和/或该至少一个底表面与该至少一个侧面之间的相关联的底角控制至少一个聚焦束在与电磁波的到达方向正交并且包括至少一个底表面的至少一部分的平面上的投影的角位置,其称为方位角。

著录项

  • 公开/公告号CN110168432A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 汤姆逊许可公司;

    申请/专利号CN201780064815.8

  • 申请日2017-10-20

  • 分类号G02B27/42(20060101);

  • 代理机构11258 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人林强

  • 地址 法国瑟松塞维涅市

  • 入库时间 2024-02-19 14:39:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-06

    专利申请权的转移 IPC(主分类):G02B27/42 登记生效日:20200218 变更前: 变更后: 申请日:20171020

    专利申请权、专利权的转移

  • 2019-11-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B27/42 申请日:20171020

    实质审查的生效

  • 2019-08-23

    公开

    公开

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