一种在基板上制备二氧化硅膜的方法及装置、阵列基板

摘要

本申请提供一种在基板上制备二氧化硅膜的方法及装置、阵列基板，将经过羟基化修饰的基板放置于密闭腔体内，并向密闭腔体通入含硅前体气体以及水蒸气，利用正硅酸四乙酯/正硅酸甲酯在有水条件下能够发生水解反应，生成硅醇，硅醇再与羟基化修饰的基板进行缩合反应生成二氧化硅材料附着在基板上，从而在基板上形成二氧化硅膜。该水解缩合反应可在密闭腔体内循环的持续进行，从而降低制备二氧化硅膜的成本和能耗。