公开/公告号CN110325919A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-10-11
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201780086445.8
发明设计人 J·J·M·皮耶斯特;
申请日2017-12-14
分类号G03F7/20(20060101);H01J37/20(20060101);H01J37/317(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华;张昊
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2024-02-19 14:39:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-11-05
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20171214
实质审查的生效
2019-10-11
公开
公开
机译: 调整组件和包括该调整组件的基板曝光系统
机译: 调整组件和包括调整组件的基板曝光系统
机译: 调整组件和包括这种调整组件的基板曝光系统