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调整组件和包括该调整组件的衬底曝光系统

摘要

本发明涉及一种衬底曝光系统,包括框架、用于承载衬底的衬底支撑模块、用于曝光衬底的曝光装置以及用于调整曝光装置相对于衬底支撑模块的位置的调整组件。调整组件包括液压致动器、液压发生器和导管,导管互连液压致动器和液压发生器用于形成液压系统。曝光装置、框架、调整组件和衬底支撑模块被布置为为一系列机械连接部件的一部分。一系列机械连接部件的第一部分包括曝光装置,并且第二部分包括衬底支撑模块。所述液压执行机构布置在所述第一部分和所述第二部分之间。优选地,液压致动器包括第一波纹管,而液压发生器包括第二波纹管。

著录项

  • 公开/公告号CN110325919A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201780086445.8

  • 发明设计人 J·J·M·皮耶斯特;

    申请日2017-12-14

  • 分类号G03F7/20(20060101);H01J37/20(20060101);H01J37/317(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华;张昊

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2024-02-19 14:39:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20171214

    实质审查的生效

  • 2019-10-11

    公开

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