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公开/公告号CN110226224A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-09-10
原文格式PDF
申请/专利权人 应用材料公司;
申请/专利号CN201880008558.0
发明设计人 A·巴斯;A·B·玛里克;
申请日2018-01-29
分类号
代理机构上海专利商标事务所有限公司;
代理人侯颖媖
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2024-02-19 14:07:45
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-10-08
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/768 申请日:20180129
实质审查的生效
2019-09-10
公开
机译: 用于图案化应用的选择性沉积方案
机译: 图案化应用的选择性沉积方案
机译:选择性电子束诱导侧壁的沉积,用于单个或多个电子束系统的多个图案化应用
机译:SrBi_2Ta_2O_9铁电薄膜的微图案化与选择性自沉积技术结合图案化的自组装单层和液源薄雾化学沉积相结合。
机译:通过动态微型光刻光刻制造图案化聚电解质刷,用于选择性化学金属沉积
机译:通过在高温下瞥见角度沉积,通过渗透角沉积在图案化底物上的选择性生长
机译:畴图案化的铁电表面用于通过光化学反应进行选择性沉积。
机译:二硒化钛薄膜的区域选择性生长低压化学气相沉积成微图案化基材的薄膜沉积
机译:用于微图案化压电陶瓷的空间电荷操纵设定选择性磷灰石沉积
机译:用于金纳米粒子选择性沉积的二氧化硅基板的化学图案化及单电子晶体管的制作