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一种P型多晶硅选择性发射极双面电池的制备方法

摘要

本发明一种P型多晶硅选择性发射极双面电池的制备方法,采用以下步骤:(1)将硅片依次经过碱溶液及H2O2溶液处理,然后再进过AgNO3溶液处理并形成绒面;(2)对硅片正面高温磷扩散形成浅PN结;(3)以磷源进行激光掺杂处理;(4)利用HF溶液去除磷硅玻璃PSG层,进行边绝缘和背面抛光;(5)经清洗处理过的硅片进行高温退火;(6)对硅片背面沉积一层三氧化二铝Al2O3;(7)将硅片进行退火;(8)采用等离子体增强化学气相沉积法在硅片表面沉积氢化非晶氮化硅钝化减反射层;(9)使用激光器在硅片背表面打线,得到类点型槽;(10)采用丝网印刷的方法在硅片的正面印刷Ag浆料,再进行高温烧结,这样确保电池片的双面都形成良好的接触。

著录项

  • 公开/公告号CN110137305A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海神舟新能源发展有限公司;

    申请/专利号CN201910371278.2

  • 发明设计人 杨乾彭;张松;杨林;康海晶;

    申请日2019-05-06

  • 分类号H01L31/18(20060101);H01L31/068(20120101);H01L31/0288(20060101);

  • 代理机构31107 上海航天局专利中心;

  • 代理人许丽

  • 地址 201112 上海市闵行区浦江镇江月路505号

  • 入库时间 2024-02-19 14:03:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/18 申请日:20190506

    实质审查的生效

  • 2019-08-16

    公开

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