法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-10-15
实质审查的生效 IPC(主分类):H02P21/05 申请日:20190618
实质审查的生效
2019-09-13
公开
公开
机译: 基于控制方法的离子深度分布控制方法,离子注入方法和半导体器件制造方法,以及控制方法的离子注入系统
机译: 离子深度分布控制方法,基于该控制方法的离子注入方法和半导体器件制造方法以及与该控制方法相适应的离子注入系统
机译: 基于该控制方法的离子深度分布控制方法,离子注入方法和半导体器件制造方法,以及采用该控制方法的离子注入系统