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新型多维多功能超晶格超大规模集成电路

摘要

本发明提供了一种新型多维多功能超晶格超大规模集成电路,包括:衬底;过渡层,设置在所述衬底上方;元器件层,设置在所述过度层上方,元器件层为利用基于超晶格集成电路二维电子气与二维空穴气的特殊性能设计的器件来构建高性能超晶格集成电路。在过渡层上方利用基于超晶格集成电路二维电子气与二维空穴气的特殊性能设计的器件来构建高性能超晶格集成电路,设计成新型多维多功能超晶格超大规模集成电路(MDMFSL‑ULSI:Multi‑Dimension Multi‑Functional Superlattice Ultra‑Large Scale Integrated Circuit)是以二维电子气与二维空穴气超晶格与量子井为基础并具有超高速高可靠抗辐射抗高低温等特征,而且设计效率高,制造工艺周期短,成本低,将极大地改进以上传统硅与化合物集成电路的不足之处。

著录项

  • 公开/公告号CN110085665A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 林和;

    申请/专利号CN201910372092.9

  • 发明设计人 林和;

    申请日2019-05-06

  • 分类号

  • 代理机构北京冠和权律师事务所;

  • 代理人朱健

  • 地址 北京市海淀区花园路甲一号11021室

  • 入库时间 2024-02-19 12:45:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/15 申请日:20190506

    实质审查的生效

  • 2019-08-02

    公开

    公开

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