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X射线成像设备的自动曝光参数的计算方法及装置

摘要

本发明提供了一种X射线成像设备的自动曝光参数的计算方法及装置,该方法包括:对处理对象的拍摄部位进行第一次预曝光,获取第一图像以及所述第一图像的第一ROI区信息;根据所述第一ROI区信息,对所述拍摄部位进行第二次预曝光,获取第二图像;对所述第一图像和第二图像进行能量减影,确定特征图像,以确定部位类别;根据所述第一ROI区信息,并对所述拍摄部位进行主曝光,确定第三图像;根据所述部位类别、特征图像和第一ROI区信息,确定所述第三图像的处理参数。本发明基于实际图像内容的计算,获取曝光参数,对于各种类别图像均可获得较好的处理结果,能有效提高曝光参数的准确性。

著录项

  • 公开/公告号CN110269635A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京友通上昊科技有限公司;

    申请/专利号CN201910617645.2

  • 发明设计人 邹鲁民;

    申请日2019-07-09

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人马莉

  • 地址 101111 北京市大兴区经济技术开发区科创十四街99号2号楼一层

  • 入库时间 2024-02-19 12:31:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B6/00 申请日:20190709

    实质审查的生效

  • 2019-09-24

    公开

    公开

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