首页> 中国专利> 利用过渡金属氮化物牺牲层制备氮化物单晶衬底的方法

利用过渡金属氮化物牺牲层制备氮化物单晶衬底的方法

摘要

本发明公开了一种利用过渡金属氮化物牺牲层制备氮化物单晶衬底的方法。本发明通过在氮化物单晶厚膜与氮化物模板之间引入六方晶体结构对称性的β相过渡金属氮化物牺牲层,利用过渡金属氮化物牺牲层与氮化物单晶厚膜的晶向匹配、晶格失配小、能够选择性刻蚀的特点,采用选择性刻蚀方法实现氮化物单晶厚膜与氮化物模板的分离,得到大尺寸、高质量的自支撑氮化物单晶衬底;本发明易于在过渡金属氮化物牺牲层上直接成核生长高质量氮化物单晶厚膜,无需引入额外工序辅助氮化物单晶厚膜成核,简化工艺流程;无需采用复杂的激光剥离技术,氮化物模板可重复使用,降低剥离工艺难度及成本,提高成品率;设备简单,能耗低,易操作,适合产业化生产。

著录项

  • 公开/公告号CN110172732A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京大学;

    申请/专利号CN201910468538.8

  • 申请日2019-05-31

  • 分类号C30B25/18(20060101);C30B25/20(20060101);C30B29/40(20060101);

  • 代理机构11360 北京万象新悦知识产权代理有限公司;

  • 代理人王岩

  • 地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号

  • 入库时间 2024-02-19 12:31:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B25/18 申请日:20190531

    实质审查的生效

  • 2019-08-27

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号