一种改善外延片污染印记的方法

摘要

本发明提供一种改善外延片污染印记的方法，所述方法包括：提供外延机台，所述外延机台包括基座、用于支撑所述基座的支撑架以及位于所述基座顶部的腔室；在所述基座上形成涂层；提供半导体衬底，将所述半导体衬底放入所述腔室中，在所述半导体衬底表面形成外延层，所述外延层和所述半导体衬底构成外延片，其中在形成所述外延层的过程中，所述涂层可以阻挡和/或吸附所述支撑架的污染粒子。采用本发明的方法，在半导体衬底表面形成外延层之前，在基座上形成涂层，所述涂层可以阻挡和/或吸附支撑架的污染粒子，从而减小所述支撑架区域的污染粒子浓度，进而改善所述外延片的污染印记。