法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-10
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L43/08 申请日:20170720
实质审查的生效
2019-04-16
公开
公开
机译: 减少或避免通过蚀刻磁性隧道结(MTJ)器件(包括磁性随机存取存储器(MRAM)器件)来沉积金属
机译: 用于高性能磁阻随机存取存储器(MRAM)器件的自由层侧壁氧化和隔离层辅助磁隧道结(MTJ)蚀刻
机译: 用于高性能磁阻随机存取存储器(MRAM)器件的自由层侧壁氧化和间隔辅助磁隧道结(MTJ)蚀刻