扫描离子注入系统中原位离子束电流的监测与控制

摘要

本发明涉及一种用于根据对离子束电流及其均匀性采样而控制离子注入系统的系统和方法。所述离子注入系统包括光学元件，该光学元件配置成传输离子束时选择性转向和/或整形离子束，其中，对离子束进行高频采样以提供离子束电流样本，然后对该离子束电流样本进行分析以检测离子束电流样本当中的波动、不均匀性或不可预测的变化。当检测到的多个离子束电流密度样本中的不均匀性超过预定阈值时，将这些射束电流样本与预定阈值水平和/或预测的不均匀性水平进行比较，以生成控制信号。控制系统生成控制信号，用于互锁射束传输或用于更改至少一个光学元件的输入以控制射束电流的变化。