TFT的制备方法、TFT、OLED背板和显示装置

摘要

本发明实施例公开了一种TFT的制备方法、TFT、OLED背板和显示装置，本发明实施例中方法包括：利用黑色光阻材料在玻璃基板上形成遮光层；在遮光层之上依次沉积缓冲层、第一半导体层、第一栅极绝缘层和栅极金属层；将栅极金属层下方之外的第一栅极绝缘层蚀刻掉，得到第二栅极绝缘层；对第一半导体层进行等离子处理处理，使得第二栅极绝缘层未遮挡的第一半导体层形成导体层，剩余的形成第二半导体层；依次沉积层间绝缘层、源漏极金属层、钝化层、平坦化层、像素电极层以及像素定义层。本发明实施例中可以降低平坦化层的厚度，提升了曝光工艺的准确度，增加TFT对应的OLED发光区的平坦度。