法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-06-14
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N29/04 申请日:20190225
实质审查的生效
2019-05-21
公开
公开
机译: 双晶缺陷产生区域的估计方法,双晶缺陷产生区域的去除方法和硅晶片的生产方法
机译: 训练有素的模型生成方法,培训型号,表面缺陷检测方法,钢材制造方法,通过/失效判断方法,等级判断方法,表面缺陷判断计划,通过/失败判断计划,判断系统和钢材制造设备。
机译: 用于检测到的图案的凸度/凹度判断装置,凸度/凹度判断方法,图案缺陷判断装置和图案缺陷判断方法