用于物理气相沉积设备的护罩结构及其物理气相沉积设备

摘要

本申请提供一种用于PVD设备的护罩结构以及包含所述护罩的PVD设备，所述护罩结构包括：外圈护罩；内圈护罩；绝缘连接件，所述绝缘连接件将所述内圈护罩固定连接于所述外圈护罩内，并使所述外圈护罩与内圈护罩电绝缘；第三供电器，所述第三供电器与所述内圈护罩电连接。所述的用于物理气相沉积设备的护罩结构以及包括所述护罩的PVD设备，提高了PVD工艺的沉积率，提高了靶材利用率，从而降低了工艺成本。