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单光子雪崩二极管及制作方法、探测器阵列、图像传感器

摘要

本发明公开了一种单光子雪崩二极管及制作方法、探测器阵列、图像传感器,其中,背照式单光子雪崩二极管设置有陷光结构和侧壁反射墙,入射光经过陷光结构反射、散射、折射后被分散到各个角度,加上侧壁反射墙的反射作用,可以延长光在背照式单光子雪崩二极管中的有效光程,从而提高了光在背照式单光子雪崩二极管中的吸收效率;一种背照式单光子雪崩二极管的制作方法,实现了背照式单光子雪崩二极管的制作。而包含背照式单光子雪崩二极管的光电探测器阵列和图像传感器,由于具有背照式单光子雪崩二极管,有效提高了光电探测器阵列和图像传感器的光吸收效率。

著录项

  • 公开/公告号CN109659377A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市灵明光子科技有限公司;

    申请/专利号CN201811524540.4

  • 发明设计人 臧凯;李爽;马志洁;

    申请日2018-12-13

  • 分类号H01L31/0232(20140101);H01L31/107(20060101);H01L27/144(20060101);H01L27/146(20060101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构44205 广州嘉权专利商标事务所有限公司;

  • 代理人唐致明;洪铭福

  • 地址 518000 广东省深圳市南山区西丽街道高新技术产业园北区清华信息港科研楼4层410号

  • 入库时间 2024-02-19 09:48:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0232 申请日:20181213

    实质审查的生效

  • 2019-04-19

    公开

    公开

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