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一种基于离子注入技术的微纳颗粒二维图形化吸附工艺

摘要

本发明公开了一种基于离子注入技术的微纳颗粒二维图形化吸附工艺,通过在材料表面覆盖掩膜,注入不同种类的金属离子,并调节合适的吸附组装环境,将材料浸入胶体颗粒溶液中静置,经过提拉平放于桌面自然干燥后,在静电作用下实现不同种类的微/纳米颗粒的正/反图形化吸附。此外,基于对图形化形成过程的规律探索,通过改变胶体颗粒溶液的张力参数,实现了不同尺度从均匀图案到点阵的图形化工作。本发明依靠离子束对材料固有的表面电位的调控,实现灵活自由的图形化吸附,过程简单易行,并且掩膜可重复循环利用,适合材料表面大面积图形化微纳加工。

著录项

  • 公开/公告号CN109824010A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京师范大学;

    申请/专利号CN201910055174.0

  • 申请日2019-01-21

  • 分类号B81C1/00(20060101);C23C14/04(20060101);C23C14/48(20060101);

  • 代理机构11465 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人崔自京

  • 地址 100875 北京市海淀区新街口外大街19号

  • 入库时间 2024-02-19 09:48:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):B81C1/00 申请日:20190121

    实质审查的生效

  • 2019-05-31

    公开

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