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氮化镓外延片垂直漏电流与霍尔效应复合测试方法

摘要

本发明公开一种工艺流程简单、节约成本及效率高的氮化镓外延片垂直漏电流与霍尔效应复合测试方法,依次按照如下步骤进行:将势垒层表面分出垂直漏电流测试区域及霍尔效应测试区域;进行第一次光刻,使垂直漏电流测试区域全部暴露,霍尔效应测试区域正方形测试单元间的隔离区暴露;进行第一次刻蚀,刻蚀深及沟道层;去胶;利用第一荫罩板进行电极蒸镀或溅射,所述第一荫罩板上均布有第一电极沉积通孔;垂直漏电流测试;欧姆接触退火;霍尔效应测试。

著录项

  • 公开/公告号CN109585326A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大连芯冠科技有限公司;

    申请/专利号CN201811500627.8

  • 申请日2018-12-10

  • 分类号

  • 代理机构大连非凡专利事务所;

  • 代理人闪红霞

  • 地址 116023 辽宁省大连市高新技术产业园区七贤岭信达街57号工业设计产业园7号楼

  • 入库时间 2024-02-19 09:35:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20181210

    实质审查的生效

  • 2019-04-05

    公开

    公开

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