一种在不同衬底材料上制备薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种在不同衬底材料上制备薄膜的方法，包括以下步骤：首先，准备原始薄膜，原始薄膜从下而上包括牺牲衬底层，氧化硅层和目标薄膜层，目标薄膜层的上表面为抛光面；原始薄膜由室温直接键合技术制备得到；其次，使用高真空键合法将目标衬底和目标薄膜键合；最后去掉牺牲衬底层和氧化硅层，然后对目标薄膜层进行抛光，得到最终薄膜；本申请的一种在不同衬底材料上制备薄膜的方法，结合了室温直接键合法和高真空键合两种键合方法，将目标薄膜转移到目标衬底上，从而既保证了薄膜的完整性，又实现了在不同衬底上制备薄膜的效果。