法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-21
实质审查的生效 IPC(主分类):G06T15/00 申请日:20181227
实质审查的生效
2019-04-26
公开
公开
机译: 曝光装置例如投影仪,半导体制造系统的焦点校正方法,涉及基于用于校正图像的尺寸精度的设备的焦点值来执行照明设备的焦点校正。
机译: 一种ct系统的散射辐射校正方法,至少有两个偏移焦点探测器系统和x射线ct系统布置。
机译: 一种用于生成和编码基于360度内容投影的帧的方法和设备,该帧由堆积在金字塔投影装置中的基础投影区域和侧面投影区域表示