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等离子体产生装置及等离子体照射方法

摘要

本发明的大气压等离子体产生装置(10)具有散热器(27、28)。在散热器中形成有流路,通过使冷却气体在该流路中流动而对形成有反应室的下部壳体(20)进行冷却。此时,被用于冷却的气体因下部壳体的热量而被加温。该加温后的气体被向加热气体供给装置(14)供给,并被加热器(112)加热。并且,加热后的气体流向下部罩(22),并与等离子气体一起从下部罩(22)向被处理体喷出。由此,能够进行因放电而被加热了的下部壳体的冷却及被处理体的加热,并且能够减少气体的加热所需的能量。

著录项

  • 公开/公告号CN109565921A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社富士;

    申请/专利号CN201680088186.8

  • 发明设计人 神藤高广;池户俊之;

    申请日2016-08-11

  • 分类号H05H1/24(20060101);H05H1/26(20060101);

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人穆德骏;安翔

  • 地址 日本爱知县知立市

  • 入库时间 2024-02-19 09:09:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05H1/24 申请日:20160811

    实质审查的生效

  • 2019-04-02

    公开

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