首页> 中国专利> 一种解决ALD方式的PERC电池在电注入或光注入后效率降低的方法

一种解决ALD方式的PERC电池在电注入或光注入后效率降低的方法

摘要

本发明提出了一种解决ALD方式的PERC太阳能电池在电注入或光注入后效率降低的方法,在现有工艺路线:制绒‑扩散‑刻蚀/背抛‑正面氮化硅膜沉积‑背面ALD方式氧化铝膜沉积‑背面氮化硅膜沉积(PECVD)‑激光开槽‑丝印印刷‑烧结基础上,在背面氮化硅膜沉积工序进行工艺变动,在氮化硅膜制作前,先利用笑气、氨气、硅烷在射频电离下制作一层折射率与背面氧化铝膜接近的氮氧化硅薄膜,然后采用正常工艺制作一层氮化硅膜,完成全部工序,测试电池片在电注入或光注入前后效率差异,发现经电注入或光注入后PERC电池片效率有0.05%‑0.1%的提升。

著录项

  • 公开/公告号CN109148643A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 横店集团东磁股份有限公司;

    申请/专利号CN201810887953.2

  • 发明设计人 孙涌涛;彭兴;楼杭晓;

    申请日2018-08-06

  • 分类号H01L31/18(20060101);H01L31/0216(20140101);

  • 代理机构33109 杭州杭诚专利事务所有限公司;

  • 代理人尉伟敏

  • 地址 322118 浙江省金华市东阳市横店工业区

  • 入库时间 2024-02-19 08:37:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/18 申请日:20180806

    实质审查的生效

  • 2019-01-04

    公开

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