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一种等离子体射流阵列非均匀等离子体产生装置

摘要

本发明公开了一种等离子体射流阵列非均匀等离子体产生装置,其包括射流装置,射流装置包括气体导管,气体导管前侧设置有石英管,石英管内布置有高压电极,高压电极与电源装置连接;石英管的前侧设置有诊断装置,诊断装置包括探针,探针的后部分别与探针控制装置和测量传感器连接;气体导管与气体装置连接,气体装置、电源装置、诊断装置分别与控制装置连接,控制装置包括控制器。本发明能够解决现有技术中生成的等离子体电子密度以及分布难以控制的问题,结构简单、效率高、可靠性强。

著录项

  • 公开/公告号CN109600900A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201910062024.2

  • 申请日2019-01-23

  • 分类号H05H1/34(20060101);

  • 代理机构51229 成都正华专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人何凡

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2024-02-19 08:37:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05H1/34 申请日:20190123

    实质审查的生效

  • 2019-04-09

    公开

    公开

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