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公开/公告号CN109600900A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-04-09
原文格式PDF
申请/专利权人 电子科技大学;
申请/专利号CN201910062024.2
发明设计人 李海龙;龙俊凯;王茂琰;王彬;殷勇;蒙林;袁学松;
申请日2019-01-23
分类号H05H1/34(20060101);
代理机构51229 成都正华专利代理事务所(普通合伙);
代理人何凡
地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
入库时间 2024-02-19 08:37:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-03
实质审查的生效 IPC(主分类):H05H1/34 申请日:20190123
实质审查的生效
2019-04-09
公开
机译: 等离子体射流产生装置和等离子体射流产生方法
机译: 一种产生等离子体射流的方法以及等离子体源
机译: 用于产生借助于高频大气等离子体射流产生的高压的方法和等离子体喷嘴,在每种情况下均包括用于表征工件表面的装置
机译:等离子体聚焦装置产生铜等离子体射流参数的优化
机译:使用辉光放电在非均匀间隙中产生氮等离子体射流的研究
机译:沙漏微腔设备阵列中产生的非热微等离子体射流的伤口愈合
机译:大气压等离子体射流和薄雾等离子体射流的产生及其对HeLa细胞的影响
机译:圆柱形线阵列和X夹层等离子体的前体等离子体在1-1.7 MA电流下的辐射以及fs激光产生等离子体的显着光谱特征。
机译:直流等离子体炬产生的等离子体射流中合成的石墨烯的显着特征
机译:非均匀等离子体射流mHD不稳定性理论
机译:用于产生微等离子体射流的方法和装置。