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公开/公告号CN109219764A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-01-15
原文格式PDF
申请/专利权人 波兰光子学和纤维中心;
申请/专利号CN201780024608.X
发明设计人 L.佐斯特基维茨;M.库克林斯卡;M.纳皮尔拉拉;T.纳西洛维斯基;L.奥斯特罗斯基;A.皮特;M.希曼斯基;K.维索金斯基;A.马克维斯卡;M.穆拉维斯基;T.坦德恩达;B.比恩科瓦斯卡;
申请日2017-04-19
分类号
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人郑瑾彤
地址 波兰卢布林
入库时间 2024-02-19 08:11:37
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-04-12
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B6/122 申请日:20170419
实质审查的生效
2019-01-15
公开
机译: 用于选择性地增加光纤中的高阶模损耗的设备
机译: 用于选择性地增加高阶模的损耗的装置
机译: 有选择地增加光纤中高阶模损耗的装置
机译:低损耗,全光纤高阶模色散补偿器,用于集中或多跨度补偿
机译:介电共振器中的高阶模,用于测量损耗角正切
机译:介质谐振器中的高阶模,用于测量损耗角正切
机译:大功率单边模激光器中用于区分高阶模的散射损耗
机译:Altersolanol B是一种真菌四谷蒽醌,通过调节用于生长和细胞凋亡的关键信号传导途径,选择性地抑制雌激素受体表达人乳腺腺癌的增殖
机译:固定正畸矫治器治疗后增加的牙齿活动性可通过定位器疗法选择性地用于病例改良-一项初步研究
机译:用于高阶模的低损耗光子二氧化硅纳米纤维
机译:通过同步加速器相移和净腔功率增加测量spEaR II中的高阶模损耗。